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半導(dǎo)體發(fā)光元件和發(fā)光組件的制作方法

文檔序號(hào):42230755發(fā)布日期:2025-06-20 19:23閱讀:25來(lái)源:國(guó)知局

本公開(kāi)涉及一種半導(dǎo)體發(fā)光元件。


背景技術(shù):

1、例如日本特開(kāi)2018-174238號(hào)公報(bào)(專利文獻(xiàn)1)中記載有一種半導(dǎo)體發(fā)光元件。專利文獻(xiàn)1中記載的半導(dǎo)體發(fā)光元件具有基板和半導(dǎo)體層?;寰哂械?主表面和作為第1主表面的相反面的第2主表面。半導(dǎo)體層具有配置于第1主表面上的n型半導(dǎo)體層、配置于n型半導(dǎo)體層上的活性層和配置于活性層上的p型半導(dǎo)體層。半導(dǎo)體層具有臺(tái)面構(gòu)造。自活性層產(chǎn)生深紫外光。在第2主表面的整個(gè)面形成有凹凸構(gòu)造。

2、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

3、專利文獻(xiàn)

4、專利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2018-174238號(hào)公報(bào)


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、發(fā)明要解決的問(wèn)題

2、在專利文獻(xiàn)1所記載的半導(dǎo)體發(fā)光元件中,自第2主表面的與臺(tái)面構(gòu)造相對(duì)的部分射出的出射光的強(qiáng)度變?nèi)酰@是新發(fā)現(xiàn)的見(jiàn)解。本公開(kāi)基于這樣的見(jiàn)解,提供進(jìn)一步提高了深紫外光的提取效率的半導(dǎo)體發(fā)光元件。

3、用于解決問(wèn)題的方案

4、本公開(kāi)的半導(dǎo)體發(fā)光元件具備基板和半導(dǎo)體層?;寰哂械?主表面和作為第1主表面的相反面的第2主表面。半導(dǎo)體層具有:n型半導(dǎo)體層,其配置于第1主表面上;活性層,其配置于n型半導(dǎo)體層上且產(chǎn)生深紫外光;以及p型半導(dǎo)體層,其配置于活性層上。半導(dǎo)體層具有臺(tái)面構(gòu)造。第2主表面具有與臺(tái)面構(gòu)造相對(duì)的第1區(qū)域和位于第1區(qū)域的周?chē)牡?區(qū)域。第1區(qū)域由平坦面構(gòu)成。在第2區(qū)域形成有凹凸構(gòu)造。在平面視角下,第1區(qū)域的寬度為臺(tái)面構(gòu)造的寬度的0.1倍以上且3.0倍以下。

5、發(fā)明的效果

6、根據(jù)本公開(kāi)的半導(dǎo)體發(fā)光元件,能夠進(jìn)一步提高深紫外光的提取效率。



技術(shù)特征:

1.一種半導(dǎo)體發(fā)光元件,其中,

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體發(fā)光元件,其中,

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體發(fā)光元件,其中,

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的半導(dǎo)體發(fā)光元件,其中,

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的半導(dǎo)體發(fā)光元件,其中,

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體發(fā)光元件,其中,

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的半導(dǎo)體發(fā)光元件,其中,

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的半導(dǎo)體發(fā)光元件,其中,

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體發(fā)光元件,其中,

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體發(fā)光元件,其中,

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體發(fā)光元件,其中,

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的半導(dǎo)體發(fā)光元件,其中,

13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的半導(dǎo)體發(fā)光元件,其中,

14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的半導(dǎo)體發(fā)光元件,其中,

15.一種發(fā)光組件,其中,


技術(shù)總結(jié)
半導(dǎo)體發(fā)光元件(100、200、300)具備基板(10)和半導(dǎo)體層(20)。基板具有第1主表面(10a)和作為第1主表面的相反面的第2主表面(10b)。半導(dǎo)體層具有:n型半導(dǎo)體層(21),其配置于第1主表面上;活性層(22),其配置于n型半導(dǎo)體層上且產(chǎn)生深紫外光;以及p型半導(dǎo)體層(23),其配置于活性層上。半導(dǎo)體層具有臺(tái)面構(gòu)造(24)。第2主表面具有與臺(tái)面構(gòu)造相對(duì)的第1區(qū)域(10ba)和位于第1區(qū)域的周?chē)牡?區(qū)域(10bb)。第1區(qū)域由平坦面構(gòu)成。在第2區(qū)域形成有凹凸構(gòu)造(10c、10d)。在平面視角下,第1區(qū)域的寬度為臺(tái)面構(gòu)造的寬度的0.1倍以上且3.0倍以下。

技術(shù)研發(fā)人員:井上振一郎
受保護(hù)的技術(shù)使用者:國(guó)立研究開(kāi)發(fā)法人情報(bào)通信研究機(jī)構(gòu)
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/6/19
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