本技術(shù)屬于金屬表面處理，具體涉及一種釹鐵硼三價鉻鍍鉻的鍍層結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
1、釹鐵硼基體表面多孔隙，材料本身又具有較高的化學(xué)活性，在釹鐵硼工件的電鍍過程中，浸入到釹鐵硼表面孔隙中的酸性或堿性鍍液存在殘留腐蝕問題[1]，影響鍍層的防護(hù)性能。過去通常采用鍍銅+鎳+鉻工藝在釹鐵硼表面上制備防護(hù)層，但氰化鍍銅和六價鉻鍍鉻存在高污染問題，使這種工藝的使用受到了限制。業(yè)界對能代替氰化鍍銅的無氰鍍銅工藝進(jìn)行了大量的研究，但所開發(fā)的二價銅無氰鍍銅工藝與氰化鍍銅工藝在性能上還存在一定的差距[2]。為此，現(xiàn)行的工藝通常在釹鐵硼基體上進(jìn)行檸檬酸鹽鍍鎳制備預(yù)鍍鎳層，然后再鍍光亮鎳及其他鍍層。
2、光亮鍍鎳層的電極電位明顯正于釹鐵硼基體，在釹鐵硼基體上直接鍍鎳所制備的鍍鎳層為陰極性鍍層。當(dāng)鍍層破損或存在孔隙時，腐蝕介質(zhì)通過原電池腐蝕而破壞釹鐵硼基體，因此，這種鍍層結(jié)構(gòu)抗腐蝕能力較差。
3、參考文獻(xiàn)：[1]、李紅英，郝壯志，劉宇暉等，燒結(jié)ndfeb永磁材料腐蝕機(jī)理與表面防護(hù)技術(shù)研究進(jìn)展[j]，礦冶工程，2016，36(6)：118-124。[2]、秦足足，李建三，徐金來，國內(nèi)外無氰鍍銅工藝研究進(jìn)展[j]，電鍍與涂飾，2015，34(3)：149-152。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、為了解決釹鐵硼表面直接鍍鎳不具備電化學(xué)保護(hù)作用的技術(shù)缺陷，本實用新型提供了一種釹鐵硼三價鉻鍍鉻的鍍層結(jié)構(gòu)。為了達(dá)到上述目的本實用新型采用如下技術(shù)方案：
2、一種釹鐵硼三價鉻鍍鉻的鍍層結(jié)構(gòu)，包括釹鐵硼基體、和在所述釹鐵硼基體上從內(nèi)到外依次制備的檸檬酸鹽預(yù)鍍鎳層、鎳銅合金鍍層、光亮鍍鎳層、三價鉻鍍鉻層、及納米聚合物保護(hù)膜；
3、所述鎳銅合金鍍層的厚度為6～13μm。
4、優(yōu)選的，所述檸檬酸鹽預(yù)鍍鎳層的厚度為3～7μm。
5、優(yōu)選的，所述光亮鍍鎳層的厚度為3～6μm。
6、優(yōu)選的，所述三價鉻鍍鉻層的厚度為0.3～0.6μm。
7、采用中性檸檬酸鹽鍍鎳工藝在釹鐵硼表面制備預(yù)鍍鎳層，殘留在釹鐵硼表面孔隙中的鍍液基本無殘留腐蝕問題。在鎳銅合金鍍層上鍍光亮鎳，光亮鍍鎳層的電極電位明顯負(fù)于鎳銅合金鍍層，光亮鍍鎳層對鎳銅合金鍍層具備電化學(xué)保護(hù)作用，這種鍍層結(jié)構(gòu)能夠有效阻止腐蝕介質(zhì)對釹鐵硼基體的侵蝕。在光亮鍍鎳層上進(jìn)行三價鉻鍍鉻，當(dāng)鍍層遭受腐蝕時，腐蝕介質(zhì)首先沿橫向方向腐蝕光亮鍍鎳層，但鍍鉻層耐蝕性高，對鍍鎳層具備良好的保護(hù)作用。
8、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型具有以下有益效果：
9、1、本實用新型公開的釹鐵硼三價鉻鍍鉻的鍍層結(jié)構(gòu)，在鎳銅合金鍍層上制備光亮鍍鎳層和三價鉻鍍鉻層，克服了現(xiàn)行工藝在釹鐵硼基體上直接進(jìn)行檸檬酸鹽預(yù)鍍鎳和鍍光亮鎳不具備電化學(xué)保護(hù)作用的缺陷；
10、2、本實用新型公開的釹鐵硼三價鉻鍍鉻的鍍層結(jié)構(gòu)，耐鹽霧性能遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于gb/t34491–2017《燒結(jié)釹鐵硼表面鍍層》標(biāo)準(zhǔn)的要求。
1.一種釹鐵硼三價鉻鍍鉻的鍍層結(jié)構(gòu)，其特征在于：包括釹鐵硼基體、和在所述釹鐵硼基體上從內(nèi)到外依次制備的檸檬酸鹽預(yù)鍍鎳層、鎳銅合金鍍層、光亮鍍鎳層、三價鉻鍍鉻層、及納米聚合物保護(hù)膜；
2.如權(quán)利要求1所述的釹鐵硼三價鉻鍍鉻的鍍層結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述檸檬酸鹽預(yù)鍍鎳層的厚度為3～7μm。
3.如權(quán)利要求1所述的釹鐵硼三價鉻鍍鉻的鍍層結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述光亮鍍鎳層的厚度為3～6μm。
4.如權(quán)利要求1所述的釹鐵硼三價鉻鍍鉻的鍍層結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述三價鉻鍍鉻層的厚度為0.3～0.6μm。