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一種用于硅片電鍍的推拉閥體和電鍍設(shè)備的制作方法

文檔序號:42278136發(fā)布日期:2025-06-27 18:10閱讀:4來源:國知局

本技術(shù)屬于電鍍,特別是涉及一種用于硅片電鍍的推拉閥體和電鍍設(shè)備。


背景技術(shù):

1、隨著可再生能源需求的日益增長,太陽能行業(yè)迅速發(fā)展,太陽能電池片的制造技術(shù)成為行業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵。在太陽能電池片的制造過程中,電鍍工藝因其能夠提高電池片的導(dǎo)電性能和耐久性而得到廣泛應(yīng)用。然而,現(xiàn)有電鍍技術(shù)存在一些亟待解決的問題。

2、如圖1示意了現(xiàn)有技術(shù)中的一種電鍍裝置,其中,1代表工藝槽、2代表輔槽、3代表軟管,工藝槽1通過軟管3與輔槽2回流連接起來,電鍍反應(yīng)在工藝槽1中進(jìn)行,而電鍍液通過軟管3回流到輔槽2中。但是,批量電鍍后,工藝槽1的內(nèi)表面及槽內(nèi)滾輪上常有電鍍液殘留,這些殘留的電鍍液在蒸發(fā)后形成結(jié)晶體,若未完全溶解,將在下次電鍍時劃傷電池片,影響產(chǎn)品質(zhì)量。

3、目前,清洗滾輪和工藝槽1內(nèi)表面的最佳方法是使用高壓水槍噴射去離子水,清洗之后的水會回流進(jìn)入輔槽2中,從而導(dǎo)致電鍍液中的金屬離子和添加劑的濃度降低,進(jìn)而影響電鍍工藝參數(shù)。此外,由于工藝槽1與輔槽2之間的空間極為有限,僅有60mm高的空間,這進(jìn)一步增加了清洗和結(jié)晶體管理的難度。因此,需要提供一種針對上述現(xiàn)有技術(shù)不足的改進(jìn)技術(shù)方案。

4、因此,需要提供一種針對上述現(xiàn)有技術(shù)不足的改進(jìn)技術(shù)方案。

5、應(yīng)該注意,上面對技術(shù)背景的介紹只是為了方便對本申請的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整的說明,并方便本領(lǐng)域技術(shù)人員的理解而闡述的。不能僅僅因?yàn)檫@些方案在本申請的背景技術(shù)部分進(jìn)行了闡述而認(rèn)為上述技術(shù)方案為本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn),本實(shí)用新型的目的在于提供一種用于硅片電鍍的推拉閥體和電鍍設(shè)備,用于解決現(xiàn)有技術(shù)中電鍍裝置無法實(shí)現(xiàn)液體分流的問題,以及清洗結(jié)晶后的液體回流到輔槽中影響電鍍工藝參數(shù)的問題。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的,本實(shí)用新型提供一種用于硅片電鍍的推拉閥體,所述推拉閥體包括:

3、箱體,所述箱體包括主箱體和副箱體,所述主箱體的頂端安裝有上連接環(huán),所述主箱體的底端開設(shè)有與所述上連接環(huán)相對應(yīng)連通的下連接口,所述副箱體通過隔離板與所述主箱體固定連接;

4、推拉單元,所述推拉單元包括氣缸和閥芯,所述氣缸安裝在所述副箱體內(nèi)部,所述氣缸的伸縮桿貫穿所述隔離板并延伸至所述主箱體中;所述閥芯設(shè)置于所述主箱體中,所述閥芯相鄰于所述隔離板的一端通過連接件安裝于所述伸縮桿的延伸端,所述伸縮桿帶動所述閥芯在所述主箱體中來回移動;

5、收集腔,所述收集腔開設(shè)于所述閥芯的上端面,當(dāng)所述閥芯移動至所述上連接環(huán)正下方時,所述收集腔的開口端與所述上連接環(huán)相互連通,自所述上連接環(huán)流下來的液體收集于所述收集腔中;

6、排液單元,所述排液單元包括排液通道和排液管,所述排液通道的入口端與所述收集腔的底端連通,所述排液管至少設(shè)置有一個,所述排液管的入口端與所述排液通道的出口端連通,所述收集腔中收集的液體流體所述排液通道中并經(jīng)所述排液管排出至回收槽。

7、優(yōu)選地,所述上連接環(huán)呈漏斗狀,且所述上連接環(huán)的大徑端凸出于所述主箱體的頂端面。

8、優(yōu)選地,在豎直方向上,所述上連接環(huán)的小徑端位于所述閥芯的上方。

9、優(yōu)選地,所述閥芯與所述主箱體的側(cè)壁均為間隙配合。

10、優(yōu)選地,所述收集腔呈錐形,所述收集腔的開口端的直徑不小于所述上連接環(huán)的小徑端的口徑大小。

11、優(yōu)選地,所述排液通道包括第一排液孔和第二排液孔,所述第一排液孔貫穿所述閥芯相鄰于所述隔離板的一端,并延伸至所述收集腔的底端,所述第一排液孔與所述收集腔的底端相互連通;

12、所述第二排液孔貫穿所述閥芯的兩端,并與所述第一排液孔相交設(shè)置,所述第二排液孔的兩開口端均安裝有堵頭。

13、優(yōu)選地,所述排液管設(shè)置有兩個,兩個所述排液管平行相對設(shè)置,兩個所述排液管的入口端均與所述第二排液孔連通,且兩個所述排液管的出口端依次貫穿所述隔離板、所述副箱體遠(yuǎn)離所述隔離板的一端。

14、優(yōu)選地,所述連接件為浮動接頭,所述浮動接頭的一端與所述伸縮桿連接,所述浮動接頭的另一端安裝于所述第一排液孔貫穿所述閥芯的開口處。

15、優(yōu)選地,所述排液管的出口端連接有隔膜泵,所述隔膜泵的進(jìn)液口與所述排液管的出口端連接,所述隔膜泵通過所述排液管將所述收集腔中收集的液體排出至回收槽。

16、一種電鍍設(shè)備,所述電鍍設(shè)備包括上述的用于硅片電鍍的推拉閥體。

17、如上所述,本實(shí)用新型的用于硅片電鍍的推拉閥體和電鍍設(shè)備,具有以下有益效果:

18、本實(shí)用新型中的推拉閥體用于電鍍設(shè)備中工藝槽和輔槽之間的連接,可同時用于電鍍設(shè)備進(jìn)行清洗、電鍍工作兩種狀態(tài)時的液體排出,通過電氣控制將清洗后產(chǎn)生的廢液排放至專用回收槽中,從而不影響電鍍工藝參數(shù);通過氣缸驅(qū)動的伸縮桿實(shí)現(xiàn)閥芯的快速響應(yīng)和精確定位,實(shí)現(xiàn)快速切換閥芯的位置,浮動接頭的設(shè)置可用于補(bǔ)償氣缸與閥芯之間的偏心誤差,以防止伸縮桿在帶動閥芯移動過程中出現(xiàn)卡頓現(xiàn)象;通過隔離板實(shí)現(xiàn)主箱體與副箱體的隔離,防止交叉污染;排液管道的設(shè)計確保了液體排放的順暢,避免液體再收集腔內(nèi)滯留。

19、同時,本實(shí)用新型中的推拉閥體具有體積小、便于控制、便于清洗的特點(diǎn),可大規(guī)模用于電鍍和有易結(jié)晶溶液的工藝設(shè)備中。



技術(shù)特征:

1.一種用于硅片電鍍的推拉閥體,其特征在于,所述推拉閥體包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于硅片電鍍的推拉閥體,其特征在于:所述上連接環(huán)呈漏斗狀,且所述上連接環(huán)的大徑端凸出于所述主箱體的頂端面。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于硅片電鍍的推拉閥體,其特征在于:在豎直方向上,所述上連接環(huán)的小徑端位于所述閥芯的上方。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于硅片電鍍的推拉閥體,其特征在于:所述閥芯與所述主箱體的側(cè)壁均為間隙配合。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于硅片電鍍的推拉閥體,其特征在于:所述收集腔呈錐形,所述收集腔的開口端的直徑不小于所述上連接環(huán)的小徑端的口徑大小。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于硅片電鍍的推拉閥體,其特征在于:所述排液通道包括第一排液孔和第二排液孔,所述第一排液孔貫穿所述閥芯相鄰于所述隔離板的一端,并延伸至所述收集腔的底端,所述第一排液孔與所述收集腔的底端相互連通;

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于硅片電鍍的推拉閥體,其特征在于:所述排液管設(shè)置有兩個,兩個所述排液管平行相對設(shè)置,兩個所述排液管的入口端均與所述第二排液孔連通,且兩個所述排液管的出口端依次貫穿所述隔離板、所述副箱體遠(yuǎn)離所述隔離板的一端。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于硅片電鍍的推拉閥體,其特征在于:所述連接件為浮動接頭,所述浮動接頭的一端與所述伸縮桿連接,所述浮動接頭的另一端安裝于所述第一排液孔貫穿所述閥芯的開口處。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于硅片電鍍的推拉閥體,其特征在于:所述排液管的出口端連接有隔膜泵,所述隔膜泵的進(jìn)液口與所述排液管的出口端連接,所述隔膜泵通過所述排液管將所述收集腔中收集的液體排出至回收槽。

10.一種電鍍設(shè)備,其特征在于:所述電鍍設(shè)備包括上述權(quán)利要求1~9任一所述的用于硅片電鍍的推拉閥體。


技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)提供一種用于硅片電鍍的推拉閥體和電鍍設(shè)備,該推拉閥體包括:主箱體頂端安裝有上連接環(huán),底端開設(shè)有與上連接環(huán)連通的下連接口,副箱體通過隔離板與主箱體固定連接;推拉單元包括氣缸和閥芯,氣缸安裝在副箱體內(nèi),氣缸的伸縮桿貫穿隔離板并延伸至主箱體中;閥芯設(shè)于主箱體中,閥芯通過連接件安裝于伸縮桿的延伸端;收集腔設(shè)于閥芯上端面;排液單元包括排液通道和至少一個排液管,排液通道的入口端與收集腔的底端連通,排液管的入口端與排液通道的出口端連通。本技術(shù)中的推拉閥體連接于電鍍設(shè)備中工藝槽和輔槽之間,可同時用于電鍍設(shè)備清洗、電鍍工作兩種狀態(tài)時的液體排出,可大規(guī)模用于電鍍和有易結(jié)晶溶液的工藝設(shè)備中。

技術(shù)研發(fā)人員:劉培,嚴(yán)必明,李雙亮,張國才
受保護(hù)的技術(shù)使用者:上海普達(dá)特設(shè)備科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日:20240819
技術(shù)公布日:2025/6/26
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