本公開涉及一種制冷劑循環(huán)裝置。

背景技術(shù)：

1、以往，已知將從cpu(central?processing?unit：中央處理器)等熱源接收的熱量傳遞至在內(nèi)部循環(huán)的制冷劑從而冷卻該熱源的冷卻控制裝置(參照專利文獻(xiàn)1)。

2、專利文獻(xiàn)1中記載的冷卻控制裝置具有：一次冷卻水的流路；作為對(duì)熱源進(jìn)行冷卻的制冷劑的二次冷卻水的流路；以及在一次冷卻水和二次冷卻水之間進(jìn)行熱交換的熱交換器。

3、此外，專利文獻(xiàn)1公開了通過調(diào)節(jié)使一次冷卻水向熱交換器的流量變化的閥的開度來將二次冷卻水的溫度控制成設(shè)定溫度的技術(shù)。

4、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

5、專利文獻(xiàn)

6、專利文獻(xiàn)1：日本特開2021－124965號(hào)公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、但是，專利文獻(xiàn)1記載的冷卻控制裝置中，當(dāng)設(shè)置于流路中的閥在一定期間內(nèi)未動(dòng)作時(shí)，電離的金屬或雜質(zhì)等堆積而成的堆積物固接于閥，閥有可能不再正常動(dòng)作。

2、因此，期待實(shí)現(xiàn)克服上述問題、堆積物不易固接于設(shè)置在流路中的閥的制冷劑循環(huán)裝置。

3、本公開提供堆積物不易固接于閥的制冷劑循環(huán)裝置。

4、本公開的一方式的制冷劑循環(huán)裝置具備一次流路、二次流路、閥和控制部。一次流路供一次制冷劑流通。二次流路供二次制冷劑流通。閥設(shè)置于一次流路或二次流路，且能調(diào)節(jié)開度。控制部對(duì)閥的動(dòng)作進(jìn)行控制。在閥未動(dòng)作的期間超過了閾值的情況下，控制部使閥進(jìn)行預(yù)先確定的動(dòng)作。

5、本公開的制冷劑循環(huán)裝置中，堆積物不易固接于閥。

技術(shù)特征：

1.一種制冷劑循環(huán)裝置，其特征在于，具備：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制冷劑循環(huán)裝置，其特征在于，

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制冷劑循環(huán)裝置，其特征在于，

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制冷劑循環(huán)裝置，其特征在于，

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制冷劑循環(huán)裝置，其特征在于，

技術(shù)總結(jié)
本公開的一方式的制冷劑循環(huán)裝置具備一次流路、二次流路、閥和控制部。一次流路供一次制冷劑流通。二次流路供二次制冷劑流通。閥設(shè)置于一次流路或二次流路，且能調(diào)節(jié)開度?？刂撇繉?duì)閥的動(dòng)作進(jìn)行控制。在閥未動(dòng)作的期間超過了閾值的情況下，控制部使閥進(jìn)行預(yù)先確定的動(dòng)作。

技術(shù)研發(fā)人員：玉岡健人,植田和弘,源通健太,永野浩之,村上拓,渡慶次銳彥
受保護(hù)的技術(shù)使用者：尼得科株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/6/19