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用于從待清潔的表面移除污染粒子的清潔裝置和方法與流程技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):42041809

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本公開(kāi)涉及一種清潔裝置和方法。具體地,本公開(kāi)涉及一種用于結(jié)合襯底處理設(shè)備和方法使用的粒子清潔裝置和方法,所述襯底處理設(shè)備和方法諸如例如是帶電粒子設(shè)備、軟x射線設(shè)備、襯底量測(cè)設(shè)備、襯底檢查設(shè)備、光刻設(shè)備等和相關(guān)聯(lián)的方法。背景技術(shù)、諸如在半導(dǎo)體器件的制造中,襯底處理設(shè)備用于生產(chǎn)和檢查襯底。例如,在制造半導(dǎo)體集成電路(ic)芯片時(shí),由于例如光學(xué)效應(yīng)和偶然粒子所引起的不期望的圖案缺陷在制造過(guò)程期間不可以避免地出現(xiàn)在襯底(即,晶片)或掩模上,由此降低良率。因此,監(jiān)測(cè)不期望的圖案缺陷的范圍為ic芯片的制造...
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