本發(fā)明涉及白墊，具體為表面具有注水孔的硅片粗拋白墊及制作工藝。
背景技術(shù)：
1、硅片粗拋是化學(xué)機(jī)械拋光過(guò)程中的重要步驟，其目的是通過(guò)化學(xué)和機(jī)械作用去除硅片表面的損傷層，同時(shí)改善表面平整度和粗糙度。
2、現(xiàn)有的白墊在對(duì)硅片進(jìn)行粗拋時(shí)，其白墊表面不能實(shí)現(xiàn)均勻的冷卻液供給，不能對(duì)硅片粗拋過(guò)程中的白墊進(jìn)行有效地冷卻降溫，導(dǎo)致白墊拋光效率低下，且硅片粗拋表面質(zhì)量差。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本發(fā)明的目的在于提供表面具有注水孔的硅片粗拋白墊及制作工藝，白墊對(duì)硅片進(jìn)行粗拋時(shí)，白墊與硅片相互擠壓，使注水孔內(nèi)儲(chǔ)水彈性體上吸收存儲(chǔ)的冷卻液受擠壓排出，對(duì)拋光層表面進(jìn)行均勻的冷卻液供給，可對(duì)硅片粗拋過(guò)程中的白墊進(jìn)行有效地冷卻降溫，提高白墊拋光效率，且提升硅片粗拋表面質(zhì)量，解決了上述背景技術(shù)中提出的問(wèn)題。
2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：
3、表面具有注水孔的硅片粗拋白墊，包括基底層和拋光層，所述基底層的表面粘接拋光層，所述拋光層上設(shè)置有均勻分布的注水孔，所述注水孔用于在硅片粗拋時(shí)受擠壓排出冷卻液對(duì)拋光層表面進(jìn)行冷卻。
4、優(yōu)選的，所述基底層包括如下質(zhì)量份數(shù)的原料：甲苯二異氰酸酯25-40份、聚醚多元醇55-65份、胺類(lèi)催化劑0.1-1份、發(fā)泡劑0.1-1份、表面活性劑1-2份、阻燃劑1-2份及穩(wěn)定劑1-2份。
5、優(yōu)選的，所述拋光層包括拋光底層和拋光面層，所述拋光底層粘接在基底層上，所述拋光底層的表面粘接拋光面層。
6、優(yōu)選的，所述拋光底層的內(nèi)側(cè)設(shè)置有儲(chǔ)水腔，所述儲(chǔ)水腔和注水孔連通，所述注水孔設(shè)置在拋光面層上。
7、優(yōu)選的，所述注水孔內(nèi)設(shè)置有儲(chǔ)水彈性體，所述儲(chǔ)水彈性體貫穿拋光面層。
8、優(yōu)選的，所述儲(chǔ)水彈性體以聚氨酯泡沫塑料為原料，經(jīng)擠出機(jī)擠出后，對(duì)其進(jìn)行加工，形成環(huán)形的儲(chǔ)水彈性體。
9、優(yōu)選的，所述拋光面層表面的注水孔呈圓形分布，呈圓形分布的注水孔的圓形數(shù)量為1、3或5。
10、優(yōu)選的，所述拋光面層包括如下質(zhì)量份數(shù)的原料：亞微米氧化鈰50-70份、氧化鋯2-5份、氧化鉻5-10份、稀土10-15份、二氧化硅5-10份和余量鈷。
11、根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，提供了表面具有注水孔的硅片粗拋白墊的制作工藝，用于制作如上述的表面具有注水孔的硅片粗拋白墊，包括：
12、將甲苯二異氰酸酯、聚醚多元醇、胺類(lèi)催化劑、發(fā)泡劑、表面活性劑、阻燃劑及穩(wěn)定劑加入反應(yīng)釜內(nèi)，對(duì)反應(yīng)釜內(nèi)的原料進(jìn)行攪拌，使其混合均勻，加工后形成基底層；
13、在拋光底層的表面開(kāi)設(shè)儲(chǔ)水腔，且在拋光面層上開(kāi)設(shè)均勻分布的注水孔，并將以聚氨酯泡沫塑料為原料，經(jīng)擠出機(jī)擠出并加工后形成的環(huán)形的儲(chǔ)水彈性體加工在注水孔內(nèi)；
14、將拋光面層粘接在拋光底層上，且將拋光底層粘接在基底層上，對(duì)基底層、拋光底層及拋光面層進(jìn)行層壓后形成白墊。
15、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：
16、本發(fā)明通過(guò)注水孔注入冷卻液，且冷卻液進(jìn)入儲(chǔ)水腔內(nèi)，在白墊對(duì)硅片進(jìn)行粗拋時(shí)，白墊與硅片相互擠壓，使注水孔內(nèi)儲(chǔ)水彈性體上吸收存儲(chǔ)的冷卻液受擠壓排出，并對(duì)拋光層表面進(jìn)行均勻的冷卻液供給，可對(duì)硅片粗拋過(guò)程中的白墊進(jìn)行有效地冷卻降溫，提高白墊拋光效率，且提升硅片粗拋表面質(zhì)量。
1.表面具有注水孔的硅片粗拋白墊，包括基底層(1)和拋光層(2)，其特征在于，所述基底層(1)的表面粘接拋光層(2)，所述拋光層(2)上設(shè)置有均勻分布的注水孔(3)，所述注水孔(3)用于在硅片粗拋時(shí)受擠壓排出冷卻液對(duì)拋光層(2)表面進(jìn)行冷卻。
2.如權(quán)利要求1所述的表面具有注水孔的硅片粗拋白墊，其特征在于，所述基底層(1)包括如下質(zhì)量份數(shù)的原料：甲苯二異氰酸酯25-40份、聚醚多元醇55-65份、胺類(lèi)催化劑0.1-1份、發(fā)泡劑0.1-1份、表面活性劑1-2份、阻燃劑1-2份及穩(wěn)定劑1-2份。
3.如權(quán)利要求1所述的表面具有注水孔的硅片粗拋白墊，其特征在于，所述拋光層(2)包括拋光底層(21)和拋光面層(22)，所述拋光底層(21)粘接在基底層(1)上，所述拋光底層(21)的表面粘接拋光面層(22)。
4.如權(quán)利要求3所述的表面具有注水孔的硅片粗拋白墊，其特征在于，所述拋光底層(21)的內(nèi)側(cè)設(shè)置有儲(chǔ)水腔(4)，所述儲(chǔ)水腔(4)和注水孔(3)連通，所述注水孔(3)設(shè)置在拋光面層(22)上。
5.如權(quán)利要求3所述的表面具有注水孔的硅片粗拋白墊，其特征在于，所述注水孔(3)內(nèi)設(shè)置有儲(chǔ)水彈性體(5)，所述儲(chǔ)水彈性體(5)貫穿拋光面層(22)。
6.如權(quán)利要求5所述的表面具有注水孔的硅片粗拋白墊，其特征在于，所述儲(chǔ)水彈性體(5)以聚氨酯泡沫塑料為原料，經(jīng)擠出機(jī)擠出后，對(duì)其進(jìn)行加工，形成環(huán)形的儲(chǔ)水彈性體(5)。
7.如權(quán)利要求6所述的表面具有注水孔的硅片粗拋白墊，其特征在于，所述拋光面層(22)表面的注水孔(3)呈圓形分布，呈圓形分布的注水孔(3)的圓形數(shù)量為1、3或5。
8.如權(quán)利要求7所述的表面具有注水孔的硅片粗拋白墊，其特征在于，所述拋光面層(22)包括如下質(zhì)量份數(shù)的原料：亞微米氧化鈰50-70份、氧化鋯2-5份、氧化鉻5-10份、稀土10-15份、二氧化硅5-10份和余量鈷。
9.表面具有注水孔的硅片粗拋白墊的制作工藝，用于制作如權(quán)利要求5-8任一項(xiàng)所述的表面具有注水孔的硅片粗拋白墊，其特征在于，包括：