本發(fā)明涉及光學部件的制造方法及光學部件。
背景技術：
1、作為眼鏡鏡片，有鏡片基材的光學面上覆蓋硬涂膜、防反射膜等薄膜而構(gòu)成的鏡片。近年來，提出了通過對薄膜進行激光照射，部分去除薄膜的一部分層，由此對眼鏡鏡片進行標記的方案(例如，參照專利文獻1)。
2、現(xiàn)有技術文獻
3、專利文獻
4、專利文獻1：日本特表2019-523447號公報。
5、發(fā)明要解決的問題
6、在以往的利用激光照射進行的標記中，存在伴隨著部分去除薄膜的一部分層而導致產(chǎn)生該薄膜的剝落的風險，此外還存在對被去除的層的下層部分造成損傷的風險。因此，當應用于眼鏡鏡片的產(chǎn)品時，存在品質(zhì)下降的擔憂。
技術實現(xiàn)思路
1、本公開的目的在于，提供一種能夠?qū)鈱W部件進行標記而不會導致該光學部件的品質(zhì)下降的技術。
2、用于解決問題的方案
3、本發(fā)明的第一方式涉及一種光學部件的制造方法，具有：去除工序，對以覆蓋光學基材的光學面的方式形成的、層疊有低折射率層和高折射率層的多層結(jié)構(gòu)的防反射膜，利用超短脈沖激光的照射進行非加熱加工，部分去除所述多層結(jié)構(gòu)，所述超短脈沖激光的脈沖寬度為0.1皮秒以上且小于100皮秒，在所述去除工序中，通過照射所述超短脈沖激光來去除作為所述多層結(jié)構(gòu)的最表層的低折射率層、或所述最表層的低折射率層和作為其緊鄰的層的導電層，并且，所述非加熱加工是抑制對作為所述導電層的下層的高折射率層的熱損傷的加工，抑制所述熱損傷的加工是指在所述高折射率層中通過所述去除工序而去除的部位的厚度t1與未去除的部位的厚度t2的比t1/t2屬于0.90以上且1.00以下的范圍內(nèi)的加工。
4、本發(fā)明的第二方式是，根據(jù)第一方式所述的光學部件的制造方法，其中，
5、以散焦設定對所述防反射膜進行所述超短脈沖激光的照射。
6、本發(fā)明的第三方式是，根據(jù)第一方式所述的光學部件的制造方法，其中，
7、所述最表層是作為所述低折射率層的sio2層。
8、本發(fā)明的第四方式是，根據(jù)第一方式所述的光學部件的制造方法，其中，
9、所述高折射率層是zro2層。
10、本發(fā)明的第五方式是，根據(jù)第一方式所述的光學部件的制造方法，其中，
11、所述導電層是sno2層或ito層。
12、本發(fā)明的第六方式是，根據(jù)第一方式所述的光學部件的制造方法，其中，
13、所述光學部件是眼鏡鏡片。
14、本發(fā)明的第七方式是，根據(jù)第一方式所述的光學部件的制造方法，其中，
15、在所述去除工序中，通過部分去除所述最表層的所述低折射率層，形成所述光學部件的裝飾圖案。
16、本發(fā)明的第八方式是，根據(jù)第一方式所述的光學部件的制造方法，其中，
17、抑制所述熱損傷的加工是指關于所述高折射率層，所述低折射率層的去除部位的厚度t1與所述低折射率層的未去除部位的厚度t2的比t1/t2屬于0.95以上且1.00以下的范圍內(nèi)的加工。
18、本發(fā)明的第九方式是，根據(jù)第一方式所述的光學部件的制造方法，其中，
19、抑制所述熱損傷的加工是指關于所述高折射率層，所述低折射率層的去除部位的厚度t1與所述低折射率層的未去除部位的厚度t2的比t1/t2屬于0.99以上且1.00以下的范圍內(nèi)的加工。
20、本發(fā)明的第十方式涉及一種光學部件，其具有：
21、光學基材，其具有光學面；以及
22、防反射膜，其覆蓋所述光學基材的所述光學面，
23、所述防反射膜具有層疊有低折射率層和高折射率層的多層結(jié)構(gòu)，并且所述多層結(jié)構(gòu)的最表層的所述低折射率層、或所述最表層的低折射率層和作為其緊鄰的層的導電層被部分去除，
24、并且，沒有發(fā)生對作為所述導電層的下層的高折射率層的熱損傷，
25、沒有發(fā)生所述熱損傷的高折射率層是指所述去除的去除部位的厚度t1與未去除部位的厚度t2的比t1/t2屬于0.90以上且1.00以下的范圍內(nèi)的高折射率層。
26、本發(fā)明的第十一方式是，根據(jù)第十方式所述的光學部件，其中，
27、所述最表層是作為所述低折射率層的sio2層。
28、本發(fā)明的第十二方式是，根據(jù)第十或十一方式所述的光學部件，其中，
29、所述高折射率層是zro2層。
30、本發(fā)明的第十三方式是，根據(jù)第十或十一方式所述的光學部件，其中，
31、所述導電層是sno2層或ito層。
32、本發(fā)明的第十四方式是，根據(jù)第十或第十一方式所述的光學部件，其中，
33、所述光學部件是眼鏡鏡片。
34、本發(fā)明的第十五方式是，根據(jù)第十或第十一方式所述的光學部件，其中，
35、所述去除部位構(gòu)成所述光學部件的裝飾圖案。
36、本發(fā)明的第十六方式是，根據(jù)第十或第十一方式所述的光學部件，其中，
37、沒有發(fā)生所述熱損傷的高折射率層是指所述去除的去除部位的厚度t1與未去除部位的厚度t2的比t1/t2屬于0.95以上且1.00以下的范圍內(nèi)的高折射率層。
38、本發(fā)明的第十七方式是，根據(jù)第十或第十一方式所述的光學部件，其中，
39、沒有發(fā)生所述熱損傷的高折射率層是指所述去除的去除部位的厚度t1與未去除部位的厚度t2的比t1/t2屬于0.99以上且1.00以下的范圍內(nèi)的高折射率層。
40、發(fā)明效果
41、根據(jù)本發(fā)明，能夠?qū)鈱W部件進行標記而不會導致該光學部件的品質(zhì)的下降。
1.一種光學部件的制造方法，具有：去除工序，對以覆蓋光學基材的光學面的方式形成的、層疊有低折射率層和高折射率層的多層結(jié)構(gòu)的防反射膜，利用超短脈沖激光的照射進行非加熱加工，部分去除所述多層結(jié)構(gòu)，
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學部件的制造方法，其中，
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學部件的制造方法，其中，
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學部件的制造方法，其中，
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學部件的制造方法，其中，
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學部件的制造方法，其中，
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學部件的制造方法，其中，
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學部件的制造方法，其中，
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學部件的制造方法，其中，
10.一種光學部件，其具有：
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光學部件，其中，
12.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的光學部件，其中，
13.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的光學部件，其中，
14.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的光學部件，其中，
15.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的光學部件，其中，
16.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的光學部件，其中，
17.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的光學部件，其中，